可見，戰(zhàn)石不管2025年是否包含波多黎各，美國的這項(xiàng)數(shù)據(jù)都往下掉了。

我們的模擬計(jì)算芯片，戰(zhàn)石旨在更高效地處理AI等領(lǐng)域最耗能的矩陣逆運(yùn)算，是對(duì)現(xiàn)有算力體系的有力補(bǔ)充。模擬計(jì)算機(jī)在計(jì)算機(jī)發(fā)展早期（上世紀(jì)30-60年代）曾被廣泛應(yīng)用，戰(zhàn)石但隨著計(jì)算任務(wù)日益復(fù)雜，其精度瓶頸凸顯，逐漸被數(shù)字計(jì)算取代。

孫仲指出，戰(zhàn)石此次研究的核心正是要解決模擬計(jì)算算不準(zhǔn)這一痛點(diǎn)。關(guān)于應(yīng)用前景，戰(zhàn)石孫仲認(rèn)為，模擬計(jì)算在未來AI領(lǐng)域的定位是強(qiáng)大的補(bǔ)充，最有可能快速落地的場(chǎng)景是計(jì)算智能領(lǐng)域，如機(jī)器人和人工智能模型的訓(xùn)練。孫仲指出，戰(zhàn)石與其他存算一體方案對(duì)比，戰(zhàn)石國內(nèi)外許多團(tuán)隊(duì)集中于研究矩陣乘法（AI推理的核心），而他的團(tuán)隊(duì)特色在于專注于更具挑戰(zhàn)性的矩陣方程求解（AI二階訓(xùn)練的核心）。

高精度全模擬矩陣計(jì)算求解矩陣方程在計(jì)算精度方面，戰(zhàn)石團(tuán)隊(duì)在實(shí)驗(yàn)上成功實(shí)現(xiàn)16×16矩陣的24比特定點(diǎn)數(shù)精度求逆，戰(zhàn)石矩陣方程求解經(jīng)過10次迭代后，相對(duì)誤差可低至10??量級(jí)。該芯片在求解大規(guī)模MIMO信號(hào)檢測(cè)等關(guān)鍵科學(xué)問題時(shí)，戰(zhàn)石計(jì)算吞吐量與能效較當(dāng)前頂級(jí)數(shù)字處理器（GPU）提升百倍至千倍。

當(dāng)問題規(guī)模擴(kuò)大至128×128時(shí)，戰(zhàn)石計(jì)算吞吐量更達(dá)到頂級(jí)數(shù)字處理器的1000倍以上，傳統(tǒng)GPU干一天的活，這款芯片一分鐘就能搞定。孫仲說，戰(zhàn)石而模擬計(jì)算則無需這層‘轉(zhuǎn)譯，它是一種‘類比計(jì)算（analoguecomputing），可以直接用連續(xù)的物理量（如電壓、電流）來類比數(shù)學(xué)上的數(shù)字。深入掌握液體中聚合物的結(jié)構(gòu)與微觀行為，戰(zhàn)石可推動(dòng)先進(jìn)制程中光刻、蝕刻和濕法清洗等關(guān)鍵工藝的缺陷控制與良率提升。研究人員最終合成出一張分辨率優(yōu)于5納米的微觀三維全景照片，戰(zhàn)石一舉克服了傳統(tǒng)技術(shù)無法原位、三維、高分辨率觀測(cè)的三大痛點(diǎn)。顯影是光刻的核心步驟之一，戰(zhàn)石通過顯影液溶解光刻膠的曝光區(qū)域，將電路圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片上。近日，戰(zhàn)石北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術(shù)，戰(zhàn)石首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面分布與纏結(jié)行為，指導(dǎo)開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。為破解難題，戰(zhàn)石研究團(tuán)隊(duì)首次將冷凍電子斷層掃描技術(shù)引入半導(dǎo)體領(lǐng)域。