彭海琳表示，重要冷凍電子斷層掃描技術(shù)為在原子/分子尺度上解析各類液相界面反應提供了強大工具。

光刻膠如同刻畫電路的顏料，歲前它在顯影液中的運動，直接決定電路畫得準不準、好不好，進而影響芯片良率。非常光刻技術(shù)是推動集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅(qū)動力之一。

彭海琳表示，重要冷凍電子斷層掃描技術(shù)為在原子/分子尺度上解析各類液相界面反應提供了強大工具。深入掌握液體中聚合物的結(jié)構(gòu)與微觀行為，歲前可推動先進制程中光刻、蝕刻和濕法清洗等關(guān)鍵工藝的缺陷控制與良率提升。研究人員最終合成出一張分辨率優(yōu)于5納米的微觀三維全景照片，非常一舉克服了傳統(tǒng)技術(shù)無法原位、三維、高分辨率觀測的三大痛點。

顯影是光刻的核心步驟之一，重要通過顯影液溶解光刻膠的曝光區(qū)域，將電路圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片上。近日，歲前北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術(shù)，歲前首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面分布與纏結(jié)行為，指導開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。

為破解難題，非常研究團隊首次將冷凍電子斷層掃描技術(shù)引入半導體領(lǐng)域。長期以來，重要光刻膠在顯影液中的微觀行為是黑匣子，工業(yè)界的工藝優(yōu)化只能靠反復試錯，這成為制約7納米及以下先進制程良率提升的關(guān)鍵瓶頸之一將其涉嫌犯罪問題移送檢察機關(guān)依法審查起訴，歲前所涉財物一并移送。劉海公開報道顯示，非常劉海出生于1964年3月，重慶開州人，2025年5月被查。在職工錄用工作中弄虛作假，重要無償借用管理服務對象錢款，重要利用職務便利非法占有公共財物，非法收受財物，故意泄露國家秘密……10月25日，重慶市紀委監(jiān)委發(fā)布消息，城口縣政協(xié)原副主席劉海被開除黨籍，涉嫌貪污、受賄、故意泄露國家秘密犯罪問題移送檢察機關(guān)依法審查起訴兩人在法國巴黎一起觀看歌舞表演，歲前慶祝水果姐生日，結(jié)束后兩人牽手出門，一起乘車離開非常長期關(guān)注導彈防御問題的專家勞拉·格雷戈在接受彭博社采訪時對美國成功攔截率達到100%的說法提出了質(zhì)疑。