每經(jīng)編輯|程鵬近日，北京大學(xué)人工智能研究院孫仲研究員團(tuán)隊(duì)聯(lián)合集成電路學(xué)院研究團(tuán)隊(duì)，成功研制出基于阻變存儲(chǔ)器的高精度、可擴(kuò)展模擬矩陣計(jì)算芯片，首次實(shí)現(xiàn)了在精度上可與數(shù)字計(jì)算媲美的模擬計(jì)算系統(tǒng)。

光刻膠如同刻畫電路的顏料，它在顯影液中的運(yùn)動(dòng)，直接決定電路畫得準(zhǔn)不準(zhǔn)、好不好，進(jìn)而影響芯片良率。光刻技術(shù)是推動(dòng)集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅(qū)動(dòng)力之一。

彭海琳表示，冷凍電子斷層掃描技術(shù)為在原子/分子尺度上解析各類液相界面反應(yīng)提供了強(qiáng)大工具。深入掌握液體中聚合物的結(jié)構(gòu)與微觀行為，可推動(dòng)先進(jìn)制程中光刻、蝕刻和濕法清洗等關(guān)鍵工藝的缺陷控制與良率提升。研究人員最終合成出一張分辨率優(yōu)于5納米的微觀三維全景照片，一舉克服了傳統(tǒng)技術(shù)無法原位、三維、高分辨率觀測(cè)的三大痛點(diǎn)。

顯影是光刻的核心步驟之一，通過顯影液溶解光刻膠的曝光區(qū)域，將電路圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片上。近日，北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術(shù)，首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面分布與纏結(jié)行為，指導(dǎo)開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。

為破解難題，研究團(tuán)隊(duì)首次將冷凍電子斷層掃描技術(shù)引入半導(dǎo)體領(lǐng)域。長(zhǎng)期以來，光刻膠在顯影液中的微觀行為是黑匣子，工業(yè)界的工藝優(yōu)化只能靠反復(fù)試錯(cuò)，這成為制約7納米及以下先進(jìn)制程良率提升的關(guān)鍵瓶頸之一近年來，居民住房需求發(fā)生重大變化，改善性住房需求明顯釋放，居民對(duì)住房品質(zhì)、物業(yè)服務(wù)、社區(qū)環(huán)境提出了更高要求。多位分析師認(rèn)為，在推動(dòng)房地產(chǎn)高質(zhì)量發(fā)展目標(biāo)下，加快構(gòu)建房地產(chǎn)發(fā)展新模式、好房子建設(shè)、高質(zhì)量開展城市更新等有望被列入十五五規(guī)劃建議中。另外，存量商品房、存量閑置土地的高質(zhì)量盤活和有效利用，也可能成為房地產(chǎn)高質(zhì)量發(fā)展的重要內(nèi)容。同時(shí)，本次全會(huì)還提出以新需求引領(lǐng)新供給，以新供給創(chuàng)造新需求。易居研究院副院長(zhǎng)嚴(yán)躍進(jìn)指出，理解房地產(chǎn)高質(zhì)量發(fā)展可從幾個(gè)方面來把握：立足十四五經(jīng)驗(yàn)與啟示基礎(chǔ)上，在十五五階段穩(wěn)妥推進(jìn)，兼顧穩(wěn)定與改革。